半導體超純水系統
電子半導體產業的超純水系統由四個核心步驟組成：預處理、逆滲透、超純和後處理。 祁立可依客戶要求客製化各種流量和出水水質的超純水系統。
• ≥18 mΩ 電阻率
• <5 ppb 碳
• <0.1 ppb 二氧化矽
流程圖
1. 採用離子交換樹脂的傳統水處理方法，為電子工業生產超純水。
其基本流程：
●原水 → 多介質過濾器 → 活性碳過濾器 → 濾芯過濾器 → 中間水箱 → 陽離子床 → 陰離子床 → 混合式床（雙床） → 超純水箱 → 超純水泵 → 後置安全過濾器 → 使用點
2. 逆滲透水處理設備與離子交換設備結合的電子工業超純水生產方法。
其基本流程：
●原水 → 多介質過濾器 → 活性碳過濾器 → 濾芯過濾器 → 中間水箱 → 陽離子床 → 陰離子床 → 混合式床（雙床） → 超純水箱 → 超純水泵 → 後置安全過濾器 → 使用點
3. 將逆滲透系統與電去離子（EDI）技術結合，以生產超純水。這是一種環保、經濟高效的超純水生產工藝，具有巨大的發展潛力。
其基本流程：
●原水 → 多介質過濾器 → 活性碳過濾器 → 濾芯過濾器 → 中間水箱 → 陽離子床 → 陰離子床 → 混合式床（雙床） → 超純水箱 → 超純水泵 → 後置安全過濾器 → 使用點
真實系統，真實效能
出貨前，我們在上海工廠生產和測試的祁立套EDI系統的工廠照片。
SS316L 不鏽鋼底座 • 雙 EDI 模組 • 整合式控制面板 • 電阻率監測
4 個 EDI 模組 • 配電櫃 • 多通道電阻率顯示器 • 自動警報
應用領域
用於清洗電解電容器製造中的電子和半導體材料、元件、鋁箔和工件的水；用於顯像管和螢光屏生產的製程用水，包括玻璃燈泡清洗、沉澱、潤濕、膠片清洗和管徑清洗；用於液晶顯示器製造過程中清洗的溶液配製用水；在電子晶片生產中，主要用於矽片清洗，少量用於化學溶液配製和切片；用於積體電路製造中矽片清洗的高純水，以及用於高品質顯像管和螢光粉生產的水；LCD、LED 和 PDP 等離子顯示面板的製程用水；用於光伏晶片切割和光電子產品製造的水；生產儲能電池、鋰電池和太陽能電池所需的水；用於電鍍、塗裝、汽車、金屬等高端精密機械及微精密產品的表面處理水；金屬、化學、生物等領域科研機構的實驗室用水；為軍事企業和航空航太、天文、核電領域的科研機構提供生產和處理用水。核心產業規範
符合 SEMI F63 標準，電阻率為 18 MΩ·cm，適用於晶圓清洗
玻璃基板清洗，低二氧化矽要求
矽片紋理化和塗層；影響少數載子壽命
USP級純水，內毒素＜0.001 EU/mL
祁立 EDI 與傳統替代方案
| 標準 | 祁立逆滲透+EDI | 混合床 IEX | 僅限傳統逆滲透 |
| 產品電阻率 | ✅ 保證電阻≥18 MΩ·cm | ⚠️ 10–18 MΩ·cm（性能下降） | ❌ ~0.05–1 MΩ·cm |
| 化學再生 | ✅ 無 — 僅限直流電 | ❌ 酸性物質 + 腐蝕性物質，每 2-3 週一次 | ✅ 無 |
| 營運連續性 | ✅ 全天候不間斷 | ❌ 每個週期停機時間為 4–8 小時 | ✅ 持續 |
| 營運成本（化學品） | ✅ 接近零 | ❌ 年薪 2 萬至 8 萬美元 | ✅ 低（限阻垢劑） |
| TOC去除 | ✅ <5 ppb（UV + EDI） | ⚠️部分（取決於樹脂） | ❌ 有限 |
| SEMI F63 合規性 | ✅ 完全合規 | ⚠️ 僅限剛再生時 | ❌ 不適用 |
| 危險廢棄物 | ✅ 無 | ❌ 酸性和鹼性廢水 | ⚠️ 僅限濃縮液 |
| 腳印 | ✅ 緊湊型滑橇/40HQ | ⚠️大型（船舶+化學品儲罐） | ✅緊湊型 |
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