نظام الماء فائق النقاء لأشباه الموصلات

نظام المياه فائقة النقاء باستخدام أشباه الموصلات

يتألف نظام المياه فائقة النقاء لصناعات الإلكترونيات وأشباه الموصلات من أربع مراحل أساسية: المعالجة الأولية، والتناضح العكسي، والتنقية الفائقة، والمعالجة النهائية. تُصمم شركة QILEE أنظمة المياه فائقة النقاء حسب الطلب، مع مراعاة معدلات التدفق وجودة المياه الخارجة المختلفة، وفقًا لمتطلبات العميل.

• مقاومة نوعية ≥ 18 ملي أوم

• أقل من 5 أجزاء في المليار من الكربون العضوي

• أقل من 0.1 جزء في المليار من السيليكا

مزايا نظامنا لتنقية المياه باستخدام أشباه الموصلات

يعتمد النظام تصميمًا معياريًا بتقنية متطورة لمعالجة المياه، تشمل التناضح العكسي ثنائي المرحلة، وإزالة الأيونات الكهربائية، والطبقة المختلطة. وقد صُمم وفقًا لأحدث المعايير الفنية لضمان جودة مياه مستقرة وتشغيل موثوق به على المدى الطويل.

مخطط سير العمل

1. طريقة معالجة المياه التقليدية باستخدام راتنج التبادل الأيوني لإنتاج مياه فائقة النقاء لصناعة الإلكترونيات.

مخطط سير العمل الأساسي:

● الماء الخام ← فلتر متعدد الوسائط ← فلتر الكربون النشط ← فلتر الخرطوشة ← خزان الماء الوسيط ← طبقة الكاتيونات ← طبقة الأنيونات ← طبقة مختلطة (طبقة مزدوجة) ← خزان الماء فائق النقاء ← مضخة الماء فائق النقاء ← فلتر الأمان ← نقطة الاستخدام

2. طريقة مشتركة لمعدات معالجة المياه بالتناضح العكسي ومعدات التبادل الأيوني لإنتاج المياه فائقة النقاء لصناعة الإلكترونيات.

مخطط سير العمل الأساسي:

3. إنتاج المياه فائقة النقاء من خلال الجمع بين نظام التناضح العكسي وإزالة الأيونات الكهربائية (EDI). هذه عملية إنتاج مياه فائقة النقاء صديقة للبيئة وفعالة من حيث التكلفة، وتتمتع بإمكانات تطوير كبيرة.

مخطط سير العمل الأساسي:

أنظمة حقيقية، أداء حقيقي

صور من المصنع لأنظمة QILEE EDI التي تم بناؤها واختبارها في منشأتنا في شنغهاي قبل الشحن.

نظام ثنائي الوحدات DI

هيكل من الفولاذ المقاوم للصدأ SS316L • وحدتا تبادل بيانات إلكترونية مزدوجتان • لوحة تحكم مدمجة • مراقبة المقاومة الكهربائية

نظام EDI واسع النطاق مكون من 4 وحدات

٤ وحدات EDI • خزانة توزيع الطاقة • شاشة عرض مقاومة متعددة القنوات • إنذار تلقائي

مجالات التطبيق

الماء لتنظيف المواد الإلكترونية وأشباه الموصلات والمكونات ورقائق الألومنيوم وقطع العمل في تصنيع المكثفات الإلكتروليتية؛

معالجة المياه المستخدمة في إنتاج أنابيب الصور وشاشات الفلورسنت، بما في ذلك تنظيف المصابيح الزجاجية، والترسيب، والترطيب، وغسل الأفلام، وتنظيف قطر الأنبوب؛

ماء تحضير المحلول للتنظيف أثناء تصنيع شاشات الكريستال السائل؛

في إنتاج الرقائق الإلكترونية، تستخدم بشكل أساسي لتنظيف رقائق السيليكون، مع جزء صغير لإعداد المحاليل الكيميائية والتقطيع؛

مياه عالية النقاء لتنظيف رقائق السيليكون في تصنيع الدوائر المتكاملة، بالإضافة إلى المياه اللازمة لإنتاج أنابيب الصور عالية الجودة والفوسفور؛

مياه معالجة لشاشات العرض البلازما LCD و LED و PDP؛

الماء لتقطيع رقائق الخلايا الكهروضوئية وتصنيع المنتجات الإلكترونية الضوئية؛

مياه الإنتاج لبطاريات التخزين وبطاريات الليثيوم والخلايا الشمسية؛

مياه معالجة الأسطح للطلاء الكهربائي، والطلاء، والسيارات، والمعادن، وغيرها من الآلات الدقيقة عالية الجودة والمنتجات الدقيقة للغاية؛

مياه المختبرات لمؤسسات البحوث في مجالات المعادن والكيمياء والأحياء وغيرها؛

إنتاج ومعالجة المياه للمؤسسات العسكرية ومراكز الأبحاث في قطاعات الطيران والفضاء وعلم الفلك والطاقة النووية.

المواصفات الأساسية للصناعة

الدوائر المتكاملة لأشباه الموصلات / ذاكرة الوصول العشوائي الديناميكية / ذاكرة NAND

متوافق مع معيار SEMI F63، 18 ميجا أوم·سم، لتنظيف الرقاقات

شاشات العرض LCD / OLED

تنظيف الركيزة الزجاجية، متطلبات منخفضة من السيليكا

أنظمة الطاقة الشمسية الكهروضوئية من توبكون / إتش جيه تي

تشكيل وتغطية رقائق السيليكون؛ يؤثر على عمر حاملات الشحنة الثانوية

المستحضرات الصيدلانية والتكنولوجيا الحيوية

ماء نقي وفقًا لمعايير دستور الأدوية الأمريكي، نسبة السموم الداخلية < 0.001 وحدة سمية داخلية/مل

مياه تغذية الغلايات (BFW) لصناعة الطاقة

الموصلية <0.1 ميكروسيمنز/سم، استبدال الطبقة المختلطة، خفض النفقات التشغيلية بنسبة 50%

الاختبارات المعملية والتحليلية

HPLC / ICP-MS / زراعة الخلايا، ISO 3696 الدرجة 1

لوحات الدوائر المطبوعة والمكونات الإلكترونية

المقاومة النوعية > 10 ميجا أوم·سم، تنظيف طلاء النحاس

محلل كهربائي للهيدروجين الأخضر بتقنية PEM

الموصلية <1 ميكروسيمنز/سم، حماية MEA

QILEE EDI مقابل البدائل التقليدية

معايير	QILEE RO + EDI	مبادل حراري مختلط	نظام التناضح العكسي التقليدي فقط
المقاومة الكهربائية للمنتج	✅ مضمون ≥18 ميجا أوم·سم	⚠️ 10–18 ميجا أوم·سم (تتدهور)	❌ ~0.05–1 ميجا أوم·سم
التجديد الكيميائي	✅ لا شيء — تيار مستمر فقط	❌ حمض + كاوٍ، كل 2-3 أسابيع	✅ لا شيء
استمرارية العمليات	✅ متوفر على مدار الساعة طوال أيام الأسبوع دون انقطاع	❌ فترة توقف من 4 إلى 8 ساعات لكل دورة	✅ مستمر
النفقات التشغيلية (المواد الكيميائية)	✅ قريب من الصفر	❌ 20,000–80,000 دولار أمريكي/سنوياً	✅ منخفض (مضاد للترسبات فقط)
إزالة TOC	✅ أقل من 5 أجزاء في المليار (الأشعة فوق البنفسجية + EDI)	⚠️ جزئي (يعتمد على نوع الراتنج)	❌ محدود
متوافق مع معيار SEMI F63	✅ امتثال كامل	⚠️ فقط عند التجديد حديثًا	❌ غير قابل للتطبيق
النفايات الخطرة	✅ لا شيء	❌ نفايات حمضية + كاوية	⚠️ للتركيز فقط
بصمة أرضية	✅ منصة تحميل مدمجة / حاوية 40HQ	⚠️ كبير (وعاء + خزانات مواد كيميائية)	✅ صغير الحجم

احصل على عرضك الفني المجاني خلال 48 ساعة

أرسل إلينا تحليل مياه التغذية ومتطلبات التدفق. سيقوم مهندسونا بتصميم نظام وإرسال عرض فني مفصل إليك يتضمن تحديد الأحجام ورسم تخطيطي للأنابيب والأجهزة وتكلفة تقديرية، وذلك بدون أي تكلفة أو التزام.

تنزيل >

Tell Us More About Your Project !

If you have any questions about water treatment systems, please feel free to contact QILEE.

Stable equipment