Półprzewodnikowy system ultraczystej wody

System wody ultraczystej półprzewodnikowej

System wody ultraczystej dla przemysłu elektronicznego i półprzewodnikowego składa się z czterech podstawowych etapów: wstępnego uzdatniania, odwróconej osmozy, ultraoczyszczania i oczyszczania końcowego. QILEE dostosowuje system wody ultraczystej o różnych natężeniach przepływu i jakości wody wylotowej do wymagań klienta.

• rezystywność ≥18 mω

• <5 ppb tokoferoli

• <0,1 ppb krzemionki

Zalety naszego systemu wody ultraczystej opartego na półprzewodnikach

System wykorzystuje modułową konstrukcję z zaawansowaną technologią uzdatniania wody, wykorzystującą dwustopniową technologię odwróconej osmozy (RO) + EDI + złoże mieszane. Został zaprojektowany zgodnie z najnowszymi normami technicznymi, aby zagwarantować stabilną jakość wody i długotrwałą, niezawodną pracę.

Przepływ procesu

1. Tradycyjna metoda uzdatniania wody z wykorzystaniem żywicy jonowymiennej do produkcji ultraczystej wody na potrzeby przemysłu elektronicznego.

Podstawowy przebieg procesu:

● Surowa woda → Filtr wielowarstwowy → Filtr z węglem aktywnym → Filtr wkładowy → Zbiornik na wodę pośrednią → Złoże kationowe → Złoże anionowe → Złoże mieszane (podwójne) → Zbiornik na wodę ultraczystą → Pompa UPW → Filtr zabezpieczający po → Punkt poboru

2. Połączona metoda uzdatniania wody metodą odwróconej osmozy i wymiana jonowa do produkcji ultraczystej wody dla przemysłu elektronicznego.

Podstawowy przebieg procesu:

3. Produkcja wody ultraczystej poprzez połączenie systemu odwróconej osmozy z elektrodejonizacją (EDI). Jest to ekologiczny i ekonomiczny proces produkcji wody ultraczystej o dużym potencjale rozwoju.

Podstawowy przebieg procesu:

Prawdziwe systemy, prawdziwa wydajność

Zdjęcia fabryczne systemów QILEE EDI zbudowanych i przetestowanych w naszym zakładzie w Szanghaju przed wysyłką.

System DI 2-modułowy

Stelaż SS316L • Podwójne moduły EDI • Zintegrowany panel sterowania • Monitorowanie rezystywności

System EDI 4-modułowy o dużej skali

4 moduły EDI • Szafa rozdzielcza zasilania • Wielokanałowy wyświetlacz rezystywności • Automatyczny alarm

Pola zastosowań

Woda do czyszczenia materiałów elektronicznych i półprzewodnikowych, podzespołów, folii aluminiowych i przedmiotów obrabianych w produkcji kondensatorów elektrolitycznych;

Woda procesowa do produkcji kineskopów i ekranów fluorescencyjnych, obejmująca czyszczenie bańki szklanej, wytrącanie, zwilżanie, mycie folii i czyszczenie średnicy rury;

Przygotowanie roztworu wodnego do czyszczenia podczas produkcji wyświetlaczy ciekłokrystalicznych;

W produkcji układów elektronicznych, głównie do czyszczenia płytek krzemowych, z niewielką ilością do przygotowywania i krojenia roztworów chemicznych;

Wysokiej czystości woda do czyszczenia płytek krzemowych w produkcji układów scalonych, a także woda do produkcji wysokiej jakości kineskopów i luminoforów;

Woda procesowa do paneli wyświetlaczy plazmowych LCD, LED i PDP;

Woda do cięcia płytek fotowoltaicznych i produkcji wyrobów optoelektronicznych;

Woda produkcyjna do akumulatorów, baterii litowych i ogniw słonecznych;

Woda do obróbki powierzchniowej w galwanizacji, powlekaniu, motoryzacji, metalurgii i innych precyzyjnych maszynach i produktach mikroprecyzyjnych;

Woda laboratoryjna dla instytutów badawczych w dziedzinie metalurgii, chemii, biologii i innych;

Woda produkcyjna i procesowa dla przedsiębiorstw wojskowych i placówek badawczych w sektorach lotnictwa i astronomii, energetyki jądrowej.

Specyfikacje branżowe

Układ scalony półprzewodnikowy / DRAM / NAND

Zgodny z normą SEMI F63, 18 MΩ·cm, do czyszczenia płytek półprzewodnikowych

Panele wyświetlaczy LCD / OLED

Czyszczenie podłoża szklanego, niskie zapotrzebowanie na krzemionkę

Solar PV TOPCon / HJT

Teksturowanie i powlekanie płytek krzemowych wpływa na żywotność nośników mniejszościowych

Farmacja i biotechnologia

Oczyszczona woda USP, endotoksyna ＜0,001 EU/ml

Woda zasilająca kotły (BFW) dla przemysłu energetycznego

Przewodność ＜0,1 μS/cm, wymiana złoża mieszanego, redukcja OPEX o 50%

Badania laboratoryjne i analityczne

HPLC / ICP-MS / hodowla komórkowa, ISO 3696 stopień 1

PCB i komponenty elektroniczne

Rezystywność ＞10 MΩ·cm, czyszczenie miedziowania

Zielony elektrolizer wodoru PEM

Przewodność ＜1 μS/cm, ochrona MEA

QILEE EDI a konwencjonalne alternatywy

Kryteria	QILEE RO + EDI	Mieszane złoże IEX	Tylko konwencjonalny RO
Rezystywność produktu	✅ ≥18 MΩ·cm gwarantowane	⚠️ 10–18 MΩ·cm (degraduje)	❌ ~0,05–1 MΩ·cm
Regeneracja chemiczna	✅ Brak — tylko prąd stały	❌ Kwas + ług, co 2–3 tygodnie	✅ Brak
Ciągłość operacyjna	✅ 24/7 bez przerwy	❌ 4–8 godzin przestoju na cykl	✅ Ciągły
OPEX (chemikalia)	✅ Blisko zera	❌ 20 000–80 000 USD/rok	✅ Niski (tylko środek przeciw kamieniowi)
Usuwanie TOC	✅ <5 ppb (UV + EDI)	⚠️ Częściowe (w zależności od żywicy)	❌ Ograniczone
Zgodność z normą SEMI F63	✅ Pełna zgodność	⚠️ Tylko po regeneracji	❌ Nie dotyczy
Odpad niebezpieczny	✅ Brak	❌ Ścieki kwaśne i żrące	⚠️ Tylko koncentracja
Ślad stopy	✅ Kompaktowy podwozie / 40HQ	⚠️ Duże (statek + zbiorniki chemiczne)	✅ Kompaktowy

Otrzymaj bezpłatną propozycję techniczną w ciągu 48 godzin

Prześlij nam swoją analizę wody zasilającej i wymagania dotyczące przepływu. Nasi inżynierowie zaprojektują system i prześlą szczegółową propozycję techniczną z wymiarowaniem, rysunkiem P&ID i ceną budżetową, bezpłatnie i bez zobowiązań.

Pobierz >

Tell Us More About Your Project !

If you have any questions about water treatment systems, please feel free to contact QILEE.

Stable equipment