Sistem Air Ultra-murni Semikonduktor

Sistem Air Ultra Murni Semikonduktor

Sistem air ultra-murni untuk industri elektronik dan semikonduktor terdiri dari empat langkah inti: pra-perlakuan, osmosis terbalik, ultra-pemurnian, dan pasca-perlakuan. QILEE menyesuaikan sistem air ultra-murni dengan berbagai laju aliran dan kualitas air keluaran sesuai kebutuhan klien.

• Resistivitas ≥18 mω

• <5 ppb toc

• <0,1 ppb silika

Keunggulan Sistem Air Ultra Murni Semikonduktor Kami

Sistem ini mengadopsi desain modular dengan teknologi pengolahan air canggih berupa RO dua tahap + EDI + mixed bed. Sistem ini dirancang sesuai dengan standar teknis terbaru untuk menjamin kualitas air yang stabil dan pengoperasian yang andal dalam jangka panjang.

Alur Proses

1. Metode pengolahan air tradisional menggunakan resin penukar ion untuk menghasilkan air ultra-murni untuk industri elektronik.

Alur proses dasarnya:

● Air Baku → Filter Multi-media → Filter Karbon Aktif → Filter Kartrid → Tangki Air Perantara → Lapisan Kation → Lapisan Anion → Lapisan Campuran (Dua Lapisan) → Tangki Air Ultra Murni → Pompa UPW → Filter Keamanan Pasca → Titik Penggunaan

2. Metode gabungan peralatan pengolahan air osmosis terbalik dan peralatan pertukaran ion untuk produksi air ultra-murni untuk industri elektronik.

Alur proses dasarnya:

3. Produksi air ultra-murni dengan menggabungkan sistem osmosis terbalik dengan elektrodeionisasi (EDI). Ini adalah proses produksi air ultra-murni yang ramah lingkungan, hemat biaya, dan memiliki potensi pengembangan yang besar.

Alur proses dasarnya:

Sistem Nyata, Kinerja Nyata

Foto-foto pabrik sistem EDI QILEE yang dirakit dan diuji di fasilitas kami di Shanghai sebelum pengiriman.

Sistem DI 2 Modul

Rangka SS316L • Modul EDI ganda • Panel kontrol terintegrasi • Pemantauan resistivitas

Sistem EDI Skala Besar 4 Modul

4 modul EDI • Kabinet distribusi daya • Layar resistivitas multi-saluran • Alarm otomatis

Bidang Aplikasi

Air untuk membersihkan material elektronik dan semikonduktor, komponen, lembaran aluminium, dan benda kerja dalam pembuatan kapasitor elektrolitik;

Air proses untuk produksi tabung gambar dan layar fluoresen, termasuk pembersihan bohlam kaca, pengendapan, pembasahan, pencucian film, dan pembersihan diameter tabung;

Air persiapan larutan untuk pembersihan selama pembuatan layar kristal cair;

Dalam produksi chip elektronik, terutama digunakan untuk pembersihan wafer silikon, dengan sebagian kecil untuk persiapan larutan kimia dan pemotongan;

Air dengan kemurnian tinggi untuk pembersihan wafer silikon dalam pembuatan IC, serta air untuk produksi tabung gambar dan fosfor berkualitas tinggi;

Air proses untuk panel layar LCD, LED, dan plasma PDP;

Air untuk pemotongan wafer fotovoltaik dan pembuatan produk optoelektronik;

Air produksi untuk baterai penyimpanan, baterai lithium, dan sel surya;

Air perawatan permukaan untuk pelapisan listrik, pelapisan, otomotif, logam, dan mesin presisi tinggi lainnya & produk presisi mikro;

Air laboratorium untuk lembaga penelitian di bidang logam, kimia, biologi, dan bidang lainnya;

Air untuk produksi & pengolahan bagi perusahaan militer dan lembaga penelitian di sektor kedirgantaraan, astronomi, dan tenaga nuklir.

Spesifikasi Industri Inti

IC Semikonduktor / DRAM / NAND

Sesuai dengan standar SEMI F63, 18 MΩ·cm, untuk pembersihan wafer.

Panel Layar LCD / OLED

Pembersihan substrat kaca, kebutuhan silika rendah

Panel Surya TOPCon / HJT

Teksturisasi dan pelapisan wafer silikon; memengaruhi masa hidup pembawa muatan minoritas.

Farmasi & Bioteknologi

Air murni USP, endotoksin ＜0,001 EU/mL

Air Umpan Boiler (BFW) untuk industri pembangkit listrik

Konduktivitas ＜0,1 μS/cm, penggantian bed campuran, pengurangan OPEX 50%

Pengujian Laboratorium & Analitik

HPLC / ICP-MS / kultur sel, ISO 3696 Tingkat 1

PCB & Komponen Elektronik

Resistivitas >10 MΩ·cm, pembersihan pelapisan tembaga

Elektroliser PEM Hidrogen Hijau

Konduktivitas ＜1 μS/cm, perlindungan MEA

QILEE EDI vs. Alternatif Konvensional

Kriteria	QILEE RO + EDI	IEX Campuran	RO Konvensional Saja
Resistivitas produk	✅ ≥18 MΩ·cm terjamin	⚠️ 10–18 MΩ·cm (mengalami degradasi)	❌ ~0,05–1 MΩ·cm
Regenerasi kimia	✅ Tidak ada — Hanya arus DC	❌ Asam + kaustik, setiap 2–3 minggu	✅ Tidak ada
Keberlangsungan operasional	✅ Layanan tanpa gangguan 24/7	❌ Waktu henti 4–8 jam per siklus	✅ Berkelanjutan
OPEX (bahan kimia)	✅ Mendekati nol	❌ USD 20.000–80.000/tahun	✅ Rendah (hanya antiscalant)
Penghapusan TOC	✅ <5 ppb (UV + EDI)	⚠️ Sebagian (tergantung jenis resin)	❌ Terbatas
Kepatuhan SEMI F63	✅ Kepatuhan penuh	⚠️ Hanya saat baru saja diregenerasi	❌ Tidak berlaku
Limbah berbahaya	✅ Tidak ada	❌ Limbah asam + kaustik	⚠️ Hanya konsentrat
Tapak	✅ Skid kompak / 40HQ	⚠️ Besar (kapal + tangki kimia)	✅ Ringkas

Dapatkan proposal teknis gratis Anda dalam 48 jam.

Kirimkan analisis air baku dan kebutuhan aliran Anda kepada kami. Teknisi kami akan merancang sistem dan mengirimkan proposal teknis terperinci beserta ukuran, sketsa P&ID, dan perkiraan harga, tanpa biaya dan tanpa kewajiban.

Unduh >

Tell Us More About Your Project !

If you have any questions about water treatment systems, please feel free to contact QILEE.

Stable equipment