Semiconductor Ultra-rent vattensystem

Halvledarsystem för ultrarent vatten

Ultrarenvattensystem för elektronik- och halvledarindustrin består av fyra kärnsteg: förbehandling, omvänd osmos, ultrarening och efterbehandling. QILEE anpassar ultrarenvattensystem med olika flödeshastigheter och utloppsvattenkvalitet enligt kundens krav.

• ≥18 mω resistivitet

• <5 ppb toc

• <0,1 ppb kiseldioxid

Fördelar med vårt halvledarsystem för ultrarent vatten

Systemet använder modulär design med avancerad vattenreningsteknik med tvåstegs RO + EDI + blandbädd. Det är utformat i strikt enlighet med de senaste tekniska standarderna för att garantera stabil vattenkvalitet och långsiktig tillförlitlig drift.

Processflöde

1. Traditionell vattenreningsmetod med jonbytesharts för att producera ultrarent vatten för elektronikindustrin.

Dess grundläggande processflöde:

● Råvatten → Multimediafilter → Aktivt kolfilter → Patronfilter → Mellanvattentank → Katjonbädd → Anjonbädd → Blandad bädd (dubbelbädd) → Ultraren vattentank → UPW-pump → Säkerhetsfilter → Användningsställe

2. Kombinerad metod för vattenreningsutrustning med omvänd osmos och jonbytesutrustning för produktion av ultrarent vatten för elektronikindustrin.

Dess grundläggande processflöde:

3. Produktion av ultrarent vatten genom att kombinera omvänd osmos med elektrodejonisering (EDI). Detta är en miljövänlig och kostnadseffektiv UPW-produktionsprocess med stor utvecklingspotential.

Dess grundläggande processflöde:

Riktiga system, riktig prestanda

Fabriksbilder av QILEE EDI-system byggda och testade vid vår anläggning i Shanghai före leverans.

DI 2-modulssystem

SS316L-skida • Dubbla EDI-moduler • Integrerad kontrollpanel • Resistivitetsövervakning

EDI 4-modulers storskaligt system

4 × EDI-moduler • Kraftfördelningsskåp • Flerkanalig resistivitetsdisplay • Automatiskt larm

Användningsområden

Vatten för rengöring av elektroniska och halvledande material, komponenter, aluminiumfolier och arbetsstycken vid tillverkning av elektrolytkondensatorer;

Processvatten för produktion av bildrör och lysrörsskärmar, inklusive rengöring av glasbulb, utfällning, vätning, filmtvättning och rengöring av rördiameter;

Lösningsberedning med vatten för rengöring under tillverkning av flytande kristallskärmar;

Vid tillverkning av elektroniska chip används den huvudsakligen för rengöring av kiselskivor, med en liten del för beredning och skivning av kemiska lösningar;

Högrent vatten för rengöring av kiselskivor vid tillverkning av integrerade kretsar, samt vatten för produktion av högkvalitativ bildrör och fosfor;

Processvatten för LCD-, LED- och PDP-plasmaskärmar;

Vatten för skivning av solceller och tillverkning av optoelektroniska produkter;

Produktionsvatten för ackumulatorer, litiumbatterier och solceller;

Ytbehandlingsvatten för galvanisering, beläggning, fordonsindustrin, metallindustrin och andra avancerade precisionsmaskiner och mikroprecisionsprodukter;

Laboratorievatten för forskningsinstitut inom metall-, kemi-, biologiska och andra områden;

Produktion och bearbetning av vatten för militära företag och forskningsinstitutioner inom flyg- och rymdfart, astronomi och kärnkraft.

Kärnindustrins specifikationer

Halvledarkretsar / DRAM / NAND

Överensstämmer med SEMI F63, 18 MΩ·cm, för rengöring av wafers

LCD/OLED-skärmar

Rengöring av glassubstrat, lågt kiseldioxidbehov

Solcellspaneler TOPCon / HJT

Texturering och beläggning av kiselskivor påverkar livslängden på minoritetsbärare

Läkemedel och bioteknik

USP renat vatten, endotoxin <0,001 EU/ml

Pannmatningsvatten (BFW) för kraftindustrin

Konduktivitet <0,1 μS/cm, blandbäddsersättning, 50 % minskning av driftskostnader

Laboratorie- och analytiska tester

HPLC / ICP-MS / cellkultur, ISO 3696 Grad 1

PCB och elektroniska komponenter

Resistivitet >10 MΩ·cm, rengöring av kopparplätering

Grön väte PEM-elektrolysör

Konduktivitet <1 μS/cm, MEA-skydd

QILEE EDI kontra konventionella alternativ

Kriterier	QILEE RO + EDI	Blandbädds-IEX	Endast konventionell RO
Produktresistivitet	✅ ≥18 MΩ·cm garanterat	⚠️ 10–18 MΩ·cm (bryts ner)	❌ ~0,05–1 MΩ·cm
Kemisk regenerering	✅ Ingen — endast likström	❌ Syra + kaustik, varannan–var tredje vecka	✅ Ingen
Operativ kontinuitet	✅ Oavbrutet dygnet runt	❌ 4–8 timmars driftstopp per cykel	✅ Kontinuerlig
OPEX (kemikalier)	✅ Nära noll	❌ 20 000–80 000 USD/år	✅ Låg (endast antiscalant)
Borttagning av innehållsförteckning	✅ <5 ppb (UV + EDI)	⚠️ Delvis (beroende på harts)	❌ Begränsad
SEMI F63-efterlevnad	✅ Fullständig efterlevnad	⚠️ Endast när den är nyregenererad	❌ Ej tillämpligt
Farligt avfall	✅ Ingen	❌ Syra + kaustikt avloppsvatten	⚠️ Endast koncentrera
Fotavtryck	✅ Kompakt medar / 40HQ	⚠️ Stor (kärl + kemikalietankar)	✅ Kompakt

Få ditt kostnadsfria tekniska förslag inom 48 timmar

Skicka oss dina matarvattenanalyser och flödeskrav. Våra ingenjörer kommer att designa ett system och skicka dig ett detaljerat tekniskt förslag med dimensionering, P&ID-skiss och budgetpris, utan kostnad och utan förpliktelser.

Ladda ner >

Tell Us More About Your Project !

If you have any questions about water treatment systems, please feel free to contact QILEE.

Stable equipment