Паўправадніковая сістэма звышчыстай вады

Сістэма ультрачыстай вады для электроннай і паўправадніковай прамысловасці складаецца з чатырох асноўных этапаў: папярэдняя ачыстка, зваротны осмас, ультраачыстка і наступная ачыстка. QILEE распрацоўвае сістэму ультрачыстай вады з рознай хуткасцю патоку і якасцю вады на выхадзе ў адпаведнасці з патрабаваннямі кліента.

• Удзельнае супраціўленне ≥18 мОм

• <5 ppb агульнага арганічнага зместу

• <0,1 ppb дыяксіду крэмнію

Перавагі нашай паўправадніковай сістэмы звышчыстай вады

Сістэма мае модульную канструкцыю з перадавой тэхналогіяй ачысткі вады: двухступеньчаты RO + EDI + змешаны слой. Яна распрацавана ў строгай адпаведнасці з найноўшымі тэхнічнымі стандартамі, каб гарантаваць стабільную якасць вады і доўгатэрміновую надзейную працу.

Паток працэсу

1. Традыцыйны метад ачысткі вады з выкарыстаннем іонаабменнай смалы для атрымання звышчыстай вады для электроннай прамысловасці.

Яго асноўны працэс:

● Неачышчаная вада → Мультымедыйны фільтр → Фільтр з актываваным вуглём → Картрыджны фільтр → Прамежкавы рэзервуар для вады → Катыённы слой → Аніённы слой → Змяшаны слой (падвойны слой) → Рэзервуар для ультрачыстай вады → Помпа UPW → Фільтр пасляачысткі → Месца выкарыстання

2. Камбінаваны метад абсталявання для ачысткі вады зваротным осмасам і абсталявання для іонаабмену для атрымання звышчыстай вады для электроннай прамысловасці.

Яго асноўны працэс:

3. Атрыманне звышчыстай вады шляхам спалучэння сістэмы зваротнага осмасу з электрадэіянізацыяй (ЭДІ). Гэта экалагічна чысты, эканамічна эфектыўны працэс вытворчасці ультрачыстай вады з вялікім патэнцыялам развіцця.

Яго асноўны працэс:

Рэальныя сістэмы, рэальная прадукцыйнасць

Завадскія фатаграфіі сістэм QILEE EDI, пабудаваных і пратэставаных на нашым аб'екце ў Шанхаі перад адпраўкай.

2-модульная сістэма DI

Рама SS316L • Два модулі EDI • Інтэграваная панэль кіравання • Маніторынг супраціўлення

4-модульная сістэма буйнамаштабнага EDI

4 × модулі EDI • Шафа размеркавання харчавання • Шматканальны дысплей супраціўлення • Аўтаматычная сігналізацыя

Галіны прымянення

Вада для ачысткі электронных і паўправадніковых матэрыялаў, кампанентаў, алюмініевай фальгі і дэталяў пры вытворчасці электралітычных кандэнсатараў;

Тэхналагічная вада для вытворчасці кінескопаў і люмінесцэнтных экранаў, у тым ліку ачыстка шкляных колб, асаджэнне, змочванне, прамыванне плёнкі і ачыстка дыяметра трубкі;

Вада для падрыхтоўкі раствора для ачысткі падчас вытворчасці вадкакрышталічных дысплеяў;

У вытворчасці электронных мікрасхем у асноўным выкарыстоўваецца для ачысткі крэмніевых пласцін, а невялікая частка — для падрыхтоўкі хімічных раствораў і нарэзкі;

Высокачышчаная вада для ачысткі крэмніевых пласцін пры вытворчасці ІС, а таксама вада для вытворчасці высакаякасных кінескопаў і люмінофораў;

Тэхналагічная вада для плазменных панэляў LCD, LED і PDP;

Вада для нарэзкі фотаэлектрычных пласцін і вытворчасці оптаэлектронных вырабаў;

Вытворчая вада для акумулятарных батарэй, літыевых батарэй і сонечных элементаў;

Павярхоўная ачыстка вады для гальванічных пакрыццяў, пакрыццяў, аўтамабільнай, металічнай і іншых высакаякасных дакладных машын і мікрадакладных вырабаў;

Лабараторная вада для навукова-даследчых інстытутаў у галіне металургіі, хіміі, біялогіі і іншых галін;

Вытворчая і тэхналагічная вада для ваенных прадпрыемстваў і навукова-даследчых устаноў у аэракасмічнай, астранамічнай і ядзерна-энергетычнай галінах.

Асноўныя галіновыя спецыфікацыі

Паўправадніковыя мікрасхемы / DRAM / NAND

Адпавядае SEMI F63, 18 MΩ·см, для ачысткі пласцін

Панэлі дысплея LCD / OLED

Ачыстка шкляной падкладкі, нізкая патрэба ў крэмніі

Сонечныя фотаэлектрычныя батарэі TOPCon / HJT

Тэкстура і пакрыццё крэмніевых пласцін; уплывае на тэрмін службы неасноўных носьбітаў зарада

Фармацэўтыка і біятэхналогіі

Ачышчаная вада USP, эндатаксін <0,001 ЕС/мл

Пажыўная вада для катлоў (ПВК) для энергетычнай прамысловасці

Праводнасць <0,1 мкСм/см, замена змешанага слоя, зніжэнне эксплуатацыйных выдаткаў на 50%

Лабараторныя і аналітычныя выпрабаванні

ВЭЖХ / ІСП-МС / культура клетак, ISO 3696, клас 1

Друкаваныя пласціны і электронныя кампаненты

Супраціўленне >10 МОм·см, ачыстка меднага пакрыцця

Зялёны вадародны PEM-электролізер

Праводнасць <1 мкСм/см, абарона MEA

QILEE EDI супраць звычайных альтэрнатыў

Крытэрыі	QILEE RO + EDI	Змяшаны ложак IEX	Толькі звычайны RO
Супраціўленне прадукту	✅ гарантавана ≥18 МОм·см	⚠️ 10–18 МОм·см (дэградуе)	❌ ~0,05–1 МОм·см
Хімічная рэгенерацыя	✅ Няма — толькі пастаянны ток	❌ Кіслата + каўстычная вадкасць, кожныя 2–3 тыдні	✅ Няма
Бесперапыннасць аперацый	✅ Кругласутачна без перапынкаў	❌ Прастой 4–8 гадзін на цыкл	✅ Бесперапынна
Аперацыйныя выдаткі (хімічныя рэчывы)	✅ Блізка да нуля	❌ 20 000–80 000 долараў ЗША/год	✅ Нізкі (толькі антыскалант)
Выдаленне зместу	✅ <5 ppb (УФ + ЭДІ)	⚠️ Частковае (залежыць ад смалы)	❌ Абмежаваная
Адпаведнасць SEMI F63	✅ Поўная адпаведнасць	⚠️ Толькі пасля свежай рэгенерацыі	❌ Не дастасоўна
Небяспечныя адходы	✅ Няма	❌ Кіслотныя + шчолачныя сцёкавыя воды	⚠️ Толькі канцэнтрат
След	✅ Кампактны каркас / 40HQ	⚠️ Вялікі (пасудзіна + хімічныя рэзервуары)	✅ Кампактны

Атрымайце бясплатную тэхнічную прапанову на працягу 48 гадзін

Дашліце нам аналіз вашай падачы вады і патрабаванні да патоку. Нашы інжынеры распрацуюць сістэму і дашлюць вам падрабязную тэхнічную прапанову з памерамі, эскізам P&ID і бюджэтным коштам, бясплатна і без абавязацельстваў.

Спампаваць >

Tell Us More About Your Project !

If you have any questions about water treatment systems, please feel free to contact QILEE.

Stable equipment