ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษแบบเซมิคอนดักเตอร์

ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษสำหรับเซมิคอนดักเตอร์

ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษสำหรับอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์ประกอบด้วยขั้นตอนหลักสี่ขั้นตอน ได้แก่ การบำบัดเบื้องต้น การกรองแบบรีเวิร์สออสโมซิส การทำให้บริสุทธิ์ขั้นสูง และการบำบัดขั้นสุดท้าย QILEE สามารถปรับแต่งระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษให้มีอัตราการไหลและคุณภาพน้ำที่ได้หลากหลายตามความต้องการของลูกค้า

• ความต้านทาน ≥18 มิลลิโอห์ม

• <5 ppb toc

• ซิลิกา <0.1 ppb

ข้อดีของระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของเรา

ระบบนี้ใช้การออกแบบแบบโมดูลาร์พร้อมเทคโนโลยีการบำบัดน้ำขั้นสูงแบบสองขั้นตอน RO + EDI + เตียงผสม ออกแบบอย่างเคร่งครัดตามมาตรฐานทางเทคนิคล่าสุด เพื่อรับประกันคุณภาพน้ำที่คงที่และการทำงานที่เชื่อถือได้ในระยะยาว

ผังกระบวนการ

1. วิธีการบำบัดน้ำแบบดั้งเดิมโดยใช้เรซินแลกเปลี่ยนไอออนเพื่อผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษสำหรับอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์

ขั้นตอนการทำงานพื้นฐานมีดังนี้:

● น้ำดิบ → ตัวกรองมัลติมีเดีย → ตัวกรองถ่านกัมมันต์ → ตัวกรองแบบตลับ → ถังเก็บน้ำกลาง → ชั้นประจุบวก → ชั้นประจุลบ → ชั้นผสม (สองชั้น) → ถังเก็บน้ำบริสุทธิ์พิเศษ → ปั๊มน้ำบริสุทธิ์พิเศษ → ตัวกรองความปลอดภัยขั้นสุดท้าย → จุดใช้งาน

2. วิธีการผสมผสานระหว่างอุปกรณ์บำบัดน้ำแบบรีเวิร์สออสโมซิสและอุปกรณ์แลกเปลี่ยนไอออนสำหรับการผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษสำหรับอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์

ขั้นตอนการทำงานพื้นฐานมีดังนี้:

3. การผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษโดยการผสมผสานระบบรีเวิร์สออสโมซิสเข้ากับกระบวนการแยกไอออนด้วยไฟฟ้า (Electrodeionization: EDI) นี่คือกระบวนการผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษที่เป็นมิตรต่อสิ่งแวดล้อม ประหยัดต้นทุน และมีศักยภาพในการพัฒนาสูง

ขั้นตอนการทำงานพื้นฐานมีดังนี้:

ระบบจริง ประสิทธิภาพจริง

ภาพถ่ายจากโรงงาน แสดงระบบ EDI ของ QILEE ที่ผลิตและทดสอบ ณ โรงงานของเราในเซี่ยงไฮ้ก่อนจัดส่ง

ระบบ DI 2 โมดูล

แท่นวาง SS316L • โมดูล EDI คู่ • แผงควบคุมแบบรวม • การตรวจสอบค่าความต้านทาน

ระบบ EDI ขนาดใหญ่แบบ 4 โมดูล

โมดูล EDI 4 ตัว • ตู้จ่ายไฟ • จอแสดงผลค่าความต้านทานแบบหลายช่องสัญญาณ • ระบบเตือนภัยอัตโนมัติ

ช่องทางการสมัคร

น้ำสำหรับทำความสะอาดวัสดุอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์ ชิ้นส่วน ฟอยล์อลูมิเนียม และชิ้นงานในกระบวนการผลิตตัวเก็บประจุแบบอิเล็กโทรไลต์

น้ำที่ใช้ในกระบวนการผลิตหลอดภาพและจอฟลูออเรสเซนต์ รวมถึงการทำความสะอาดหลอดแก้ว การตกตะกอน การทำให้เปียก การล้างฟิล์ม และการทำความสะอาดเส้นผ่านศูนย์กลางของหลอด

การเตรียมสารละลายสำหรับทำความสะอาดในกระบวนการผลิตจอแสดงผลคริสตัลเหลว

ในกระบวนการผลิตชิปอิเล็กทรอนิกส์ ส่วนใหญ่ใช้สำหรับการทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน โดยมีส่วนน้อยสำหรับการเตรียมสารละลายเคมีและการหั่นแผ่นเวเฟอร์

น้ำบริสุทธิ์สูงสำหรับทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนในกระบวนการผลิตไอซี รวมถึงน้ำสำหรับผลิตหลอดภาพและสารเรืองแสงคุณภาพสูง

น้ำสำหรับกระบวนการผลิตแผงจอแสดงผล LCD, LED และ PDP plasma;

น้ำสำหรับกระบวนการหั่นแผ่นเวเฟอร์โซลาร์เซลล์และการผลิตผลิตภัณฑ์อิเล็กโทรออปติก

น้ำที่ใช้ในการผลิตแบตเตอรี่เก็บพลังงาน แบตเตอรี่ลิเธียม และเซลล์แสงอาทิตย์;

น้ำสำหรับปรับสภาพพื้นผิว สำหรับงานชุบโลหะด้วยไฟฟ้า งานเคลือบผิว ยานยนต์ โลหะ และเครื่องจักรความแม่นยำสูง รวมถึงผลิตภัณฑ์ที่มีความแม่นยำระดับไมโครอื่นๆ

น้ำสำหรับห้องปฏิบัติการสำหรับสถาบันวิจัยด้านโลหะ เคมี ชีววิทยา และสาขาอื่นๆ;

การผลิตและบำบัดน้ำสำหรับหน่วยงานทางทหารและสถาบันวิจัยในด้านอวกาศ ดาราศาสตร์ และพลังงานนิวเคลียร์

ข้อกำหนดอุตสาหกรรมหลัก

ไอซีเซมิคอนดักเตอร์ / ดีแรม / เอ็นดี

เป็นไปตามมาตรฐาน SEMI F63, 18 MΩ·cm สำหรับการทำความสะอาดเวเฟอร์

แผงจอแสดงผล LCD / OLED

การทำความสะอาดพื้นผิวกระจก, ความต้องการซิลิกาต่ำ

โซลาร์ PV TOPCon / HJT

การสร้างพื้นผิวและการเคลือบผิวเวเฟอร์ซิลิคอน ส่งผลต่ออายุการใช้งานของพาหะส่วนน้อย

เภสัชกรรมและเทคโนโลยีชีวภาพ

น้ำบริสุทธิ์ตามมาตรฐาน USP, เอนโดท็อกซิน <0.001 EU/มล.

น้ำป้อนหม้อไอน้ำ (BFW) สำหรับอุตสาหกรรมพลังงาน

ค่าการนำไฟฟ้า <0.1 μS/cm, การเปลี่ยนไส้กรองแบบผสม, ลดค่าใช้จ่ายในการดำเนินงาน 50%

การทดสอบในห้องปฏิบัติการและการวิเคราะห์

HPLC / ICP-MS / การเพาะเลี้ยงเซลล์, ISO 3696 ระดับ 1

แผงวงจรพิมพ์และชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์

ความต้านทานจำเพาะ ＞10 MΩ·cm, การทำความสะอาดด้วยการชุบทองแดง

เครื่องแยกน้ำด้วยไฟฟ้า PEM ไฮโดรเจนสีเขียว

ค่าการนำไฟฟ้า <1 μS/cm, การป้องกัน MEA

QILEE EDI กับทางเลือกทั่วไป

เกณฑ์	QILEE RO + EDI	IEX เตียงผสม	รีโอรีแบบดั้งเดิมเท่านั้น
ความต้านทานของผลิตภัณฑ์	✅ รับประกัน ≥18 MΩ·cm	⚠️ 10–18 MΩ·cm (เสื่อมสภาพ)	❌ ~0.05–1 MΩ·cm
การฟื้นฟูทางเคมี	✅ ไม่มี — ใช้กระแสไฟ DC เท่านั้น	❌ กรด + ด่าง ทุก 2-3 สัปดาห์	✅ ไม่มี
ความต่อเนื่องในการดำเนินงาน	✅ ใช้งานได้ต่อเนื่อง 24 ชั่วโมง 7 วันต่อสัปดาห์	❌ เวลาหยุดทำงาน 4–8 ชั่วโมงต่อรอบ	✅ ต่อเนื่อง
ค่าใช้จ่ายในการดำเนินงาน (สารเคมี)	✅ ใกล้ศูนย์	❌ 20,000–80,000 ดอลลาร์สหรัฐต่อปี	✅ ระดับต่ำ (เฉพาะสารป้องกันตะกรัน)
การลบสารบัญ	✅ <5 ppb (UV + EDI)	⚠️ บางส่วน (ขึ้นอยู่กับชนิดของเรซิน)	❌ จำนวนจำกัด
การปฏิบัติตามมาตรฐาน SEMI F63	✅ ปฏิบัติตามกฎระเบียบอย่างครบถ้วน	⚠️ ใช้ได้เฉพาะเมื่อสร้างใหม่เท่านั้น	❌ ไม่เกี่ยวข้อง
ของเสียอันตราย	✅ ไม่มี	❌ น้ำเสียที่เป็นกรดและด่าง	⚠️ ตั้งใจจดจ่ออยู่กับสิ่งเดียวเท่านั้น
รอยเท้า	✅ แท่นวางขนาดกะทัดรัด / 40HQ	⚠️ ขนาดใหญ่ (เรือ + ถังสารเคมี)	✅ ขนาดกะทัดรัด

รับข้อเสนอทางเทคนิคฟรีภายใน 48 ชั่วโมง

ส่งผลการวิเคราะห์น้ำป้อนและปริมาณการไหลที่ต้องการมาให้เรา วิศวกรของเราจะออกแบบระบบและส่งข้อเสนอทางเทคนิคโดยละเอียดพร้อมขนาด แผนผังท่อและอุปกรณ์ และราคาโดยประมาณ ให้คุณโดยไม่มีค่าใช้จ่ายและไม่มีข้อผูกมัด

ดาวน์โหลด >

Tell Us More About Your Project !

If you have any questions about water treatment systems, please feel free to contact QILEE.

Stable equipment