Sistema de agua ultrapura semiconductor

Sistema de agua ultrapura para semiconductores

El sistema de agua ultrapura para las industrias electrónica y de semiconductores consta de cuatro etapas principales: pretratamiento, ósmosis inversa, ultrapurificación y postratamiento. QILEE personaliza sistemas de agua ultrapura con diferentes caudales y calidades de agua de salida según los requisitos del cliente.

• Resistividad ≥18 mΩ

• <5 ppb de COT

• <0,1 ppb de sílice

Ventajas de nuestro sistema de agua ultrapura para semiconductores

El sistema adopta un diseño modular con tecnología avanzada de tratamiento de agua de doble etapa: ósmosis inversa (RO), electrodiálisis (EDI) y lecho mixto. Está diseñado en estricta conformidad con los últimos estándares técnicos para garantizar una calidad de agua estable y un funcionamiento fiable a largo plazo.

Flujo del proceso

1. Método tradicional de tratamiento de agua que utiliza resina de intercambio iónico para producir agua ultrapura para la industria electrónica.

Su flujo de proceso básico:

● Agua cruda → Filtro multimedia → Filtro de carbón activado → Filtro de cartucho → Tanque de agua intermedio → Lecho catiónico → Lecho aniónico → Lecho mixto (doble lecho) → Tanque de agua ultrapura → Bomba de agua ultrapura → Filtro de seguridad posterior → Punto de uso

2. Método combinado de equipos de tratamiento de agua por ósmosis inversa y equipos de intercambio iónico para la producción de agua ultrapura para la industria electrónica.

Su flujo de proceso básico:

3. Producción de agua ultrapura mediante la combinación de un sistema de ósmosis inversa con electrodesionización (EDI). Este es un proceso de producción de agua ultrapura ecológico y rentable con un gran potencial de desarrollo.

Su flujo de proceso básico:

Sistemas reales, rendimiento real

Fotografías de fábrica de los sistemas QILEE EDI fabricados y probados en nuestras instalaciones de Shanghái antes de su envío.

Sistema DI de 2 módulos

Plataforma SS316L • Módulos EDI duales • Panel de control integrado • Monitorización de resistividad

Sistema EDI de 4 módulos a gran escala

4 módulos EDI • Armario de distribución eléctrica • Visualización de resistividad multicanal • Alarma automática

Campos de aplicación

Agua para la limpieza de materiales electrónicos y semiconductores, componentes, láminas de aluminio y piezas de trabajo en la fabricación de condensadores electrolíticos;

Tratamiento de agua para la producción de tubos de imagen y pantallas fluorescentes, incluyendo la limpieza de la bombilla de vidrio, la precipitación, la humectación, el lavado de la película y la limpieza del diámetro del tubo;

Agua de preparación de la solución para la limpieza durante la fabricación de pantallas de cristal líquido;

En la producción de chips electrónicos, se utiliza principalmente para la limpieza de obleas de silicio, y una pequeña parte para la preparación de soluciones químicas y el corte;

Agua de alta pureza para la limpieza de obleas de silicio en la fabricación de circuitos integrados, así como agua para la producción de tubos de imagen y fósforo de alta calidad;

Agua de proceso para paneles de visualización LCD, LED y de plasma PDP;

Agua para el corte de obleas fotovoltaicas y la fabricación de productos optoelectrónicos;

Agua de producción para baterías de almacenamiento, baterías de litio y células solares;

Agua para tratamiento de superficies en procesos de galvanoplastia, recubrimiento, automoción, metalurgia y otros productos de alta precisión y microprecisión.

Agua de laboratorio para institutos de investigación en metalurgia, química, biología y otros campos;

Suministro de agua para la producción y el tratamiento de aguas destinadas a empresas militares e instituciones de investigación en los sectores aeroespacial, astronómico y de energía nuclear.

Especificaciones básicas de la industria

Circuitos integrados semiconductores / DRAM / NAND

Cumple con la norma SEMI F63, 18 MΩ·cm, para la limpieza de obleas.

Paneles de visualización LCD / OLED

Limpieza de sustratos de vidrio, bajo requerimiento de sílice

TOPCon / HJT de energía solar fotovoltaica

Texturización y recubrimiento de obleas de silicio; afecta la vida útil de los portadores minoritarios.

Farmacéutica y biotecnología

Agua purificada USP, endotoxinas <0,001 UE/mL

Agua de alimentación de calderas (BFW) para la industria energética

Conductividad <0,1 μS/cm, sustitución de lecho mixto, reducción del 50 % en los gastos operativos.

Pruebas de laboratorio y análisis

HPLC / ICP-MS / cultivo celular, ISO 3696 Grado 1

PCB y componentes electrónicos

Resistividad >10 MΩ·cm, limpieza del recubrimiento de cobre

Electrolizador PEM de hidrógeno verde

Conductividad ＜1 μS/cm, protección MEA

QILEE EDI frente a alternativas convencionales

Criterios	QILEE RO + EDI	IEX de lecho mixto	Solo ósmosis inversa convencional
resistividad del producto	✅ ≥18 MΩ·cm garantizado	⚠️ 10–18 MΩ·cm (se degrada)	❌ ~0,05–1 MΩ·cm
Regeneración química	✅ Ninguno — Solo corriente continua	❌ Ácido + cáustico, cada 2-3 semanas	✅ Ninguno
Continuidad operativa	✅ Servicio ininterrumpido las 24 horas del día, los 7 días de la semana	❌ Tiempo de inactividad de 4 a 8 horas por ciclo	✅ Continuo
OPEX (productos químicos)	✅ Casi cero	❌ USD 20.000–80.000/año	✅ Bajo (solo antiincrustante)
eliminación de TOC	✅ <5 ppb (UV + EDI)	⚠️ Parcial (depende de la resina)	❌ Limitado
Cumplimiento con SEMI F63	✅ Cumplimiento total	⚠️ Solo cuando está recién regenerado	❌ No aplicable
Desechos peligrosos	✅ Ninguno	❌ Efluente ácido + cáustico	⚠️ Solo concentrado
Huella	✅ Plataforma compacta / 40HQ	⚠️ Grande (recipiente + tanques de productos químicos)	✅ Compact

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Envíenos su análisis de agua de alimentación y los requisitos de caudal. Nuestros ingenieros diseñarán un sistema y le enviarán una propuesta técnica detallada con dimensionamiento, diagrama P&ID y presupuesto, sin costo ni compromiso.

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