सेमीकंडक्टर अल्ट्रा-प्योर वाटर सिस्टम
इलेक्ट्रॉनिक्स और सेमीकंडक्टर उद्योगों के लिए अति-शुद्ध जल प्रणाली में चार मुख्य चरण होते हैं: पूर्व-उपचार, रिवर्स ऑस्मोसिस, अति-शुद्धिकरण और पश्चात-उपचार। QILEE ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार विभिन्न प्रवाह दरों और निकास जल गुणवत्ता वाली अति-शुद्ध जल प्रणाली को अनुकूलित करता है।
• ≥18 mω प्रतिरोधकता
• <5 पीपीबी टीओसी
• <0.1 पीपीपीबी सिलिका
हमारे सेमीकंडक्टर अल्ट्रा-प्योर वाटर सिस्टम के लाभ
यह सिस्टम मॉड्यूलर डिज़ाइन और उन्नत जल उपचार तकनीक पर आधारित है, जिसमें डबल-स्टेज आरओ + ईडीआई + मिक्स्ड बेड तकनीक का उपयोग किया गया है। इसे नवीनतम तकनीकी मानकों के अनुरूप बनाया गया है ताकि पानी की गुणवत्ता स्थिर रहे और दीर्घकालिक रूप से विश्वसनीय संचालन सुनिश्चित हो सके।
प्रक्रिया प्रवाह
1. इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए अति-शुद्ध जल उत्पादन हेतु आयन एक्सचेंज रेजिन का उपयोग करके की जाने वाली पारंपरिक जल उपचार विधि।
इसकी मूल प्रक्रिया का प्रवाह इस प्रकार है:
● कच्चा पानी → मल्टी-मीडिया फ़िल्टर → सक्रिय कार्बन फ़िल्टर → कार्ट्रिज फ़िल्टर → मध्यवर्ती जल टैंक → धनायन बेड → ऋणायन बेड → मिश्रित बेड (डुअल बेड) → अति-शुद्ध जल टैंक → यूपीडब्ल्यू पंप → पोस्ट सिक्योरिटी फ़िल्टर → उपयोग बिंदु
2. इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए अति-शुद्ध जल उत्पादन हेतु रिवर्स ऑस्मोसिस जल उपचार उपकरण और आयन एक्सचेंज उपकरण की संयुक्त विधि।
इसकी मूल प्रक्रिया का प्रवाह इस प्रकार है:
● कच्चा पानी → मल्टी-मीडिया फ़िल्टर → सक्रिय कार्बन फ़िल्टर → कार्ट्रिज फ़िल्टर → मध्यवर्ती जल टैंक → धनायन बेड → ऋणायन बेड → मिश्रित बेड (डुअल बेड) → अति-शुद्ध जल टैंक → यूपीडब्ल्यू पंप → पोस्ट सिक्योरिटी फ़िल्टर → उपयोग बिंदु
3. रिवर्स ऑस्मोसिस प्रणाली और इलेक्ट्रोडायनाइजेशन (ईडीआई) को मिलाकर अति-शुद्ध जल का उत्पादन। यह पर्यावरण के अनुकूल, किफायती और विकास की अपार संभावनाओं वाली अति-शुद्ध जल उत्पादन प्रक्रिया है।
इसकी मूल प्रक्रिया का प्रवाह इस प्रकार है:
● कच्चा पानी → मल्टी-मीडिया फ़िल्टर → सक्रिय कार्बन फ़िल्टर → कार्ट्रिज फ़िल्टर → मध्यवर्ती जल टैंक → धनायन बेड → ऋणायन बेड → मिश्रित बेड (डुअल बेड) → अति-शुद्ध जल टैंक → यूपीडब्ल्यू पंप → पोस्ट सिक्योरिटी फ़िल्टर → उपयोग बिंदु
वास्तविक प्रणालियाँ, वास्तविक प्रदर्शन
शिपमेंट से पहले शंघाई स्थित हमारी फैक्ट्री में निर्मित और परीक्षण किए गए QILEE EDI सिस्टम की फैक्ट्री तस्वीरें।
SS316L स्किड • डुअल EDI मॉड्यूल • एकीकृत नियंत्रण पैनल • प्रतिरोधकता निगरानी
4 × EDI मॉड्यूल • विद्युत वितरण कैबिनेट • मल्टी-चैनल प्रतिरोधकता डिस्प्ले • स्वचालित अलार्म
आवेदन क्षेत्र
इलेक्ट्रोलाइटिक कैपेसिटर निर्माण में इलेक्ट्रॉनिक और सेमीकंडक्टर सामग्री, घटकों, एल्यूमीनियम फॉयल और वर्कपीस की सफाई के लिए पानी;पिक्चर ट्यूब और फ्लोरोसेंट स्क्रीन के उत्पादन के लिए प्रक्रिया जल, जिसमें ग्लास बल्ब की सफाई, अवक्षेपण, गीलापन, फिल्म की धुलाई और ट्यूब के व्यास की सफाई शामिल है;लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले निर्माण के दौरान सफाई के लिए घोल तैयार करने हेतु पानी;इलेक्ट्रॉनिक चिप उत्पादन में, इसका मुख्य रूप से उपयोग सिलिकॉन वेफर की सफाई के लिए किया जाता है, और एक छोटा हिस्सा रासायनिक घोल तैयार करने और स्लाइसिंग के लिए उपयोग किया जाता है;आईसी निर्माण में सिलिकॉन वेफर की सफाई के लिए उच्च शुद्धता वाला पानी, साथ ही उच्च गुणवत्ता वाले पिक्चर ट्यूब और फॉस्फोर उत्पादन के लिए पानी;एलसीडी, एलईडी और पीडीपी प्लाज्मा डिस्प्ले पैनलों के लिए प्रक्रिया जल;फोटोवोल्टिक वेफर स्लाइसिंग और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उत्पाद निर्माण के लिए पानी;स्टोरेज बैटरी, लिथियम बैटरी और सोलर सेल के लिए उत्पादन जल;इलेक्ट्रोप्लेटिंग, कोटिंग, ऑटोमोटिव, धातु और अन्य उच्च स्तरीय परिशुद्ध मशीनरी और सूक्ष्म परिशुद्ध उत्पादों के लिए सतह उपचार जल;धातु, रसायन, जीव विज्ञान और अन्य क्षेत्रों में अनुसंधान संस्थानों के लिए प्रयोगशाला जल;एयरोस्पेस, खगोल विज्ञान और परमाणु ऊर्जा क्षेत्रों में सैन्य उद्यमों और अनुसंधान संस्थानों के लिए उत्पादन और प्रसंस्करण जल।मुख्य उद्योग विशिष्टताएँ
वेफर की सफाई के लिए SEMI F63, 18 MΩ·cm के अनुरूप
कांच की सतह की सफाई, कम सिलिका की आवश्यकता
सिलिकॉन वेफर की बनावट और कोटिंग; अल्पसंख्यक वाहक जीवनकाल को प्रभावित करती है
यूएसपी शुद्ध जल, एंडोटॉक्सिन ＜0.001 ईयू/एमएल
QILEE EDI बनाम पारंपरिक विकल्प
| मानदंड | QILEE RO + EDI | मिश्रित-बिस्तर आईईएक्स | केवल पारंपरिक आरओ |
| उत्पाद प्रतिरोधकता | ✅ ≥18 MΩ·cm की गारंटी | ⚠️ 10–18 एमΩ·सेमी (क्षय होता है) | ❌ ~0.05–1 एमΩ·सेमी |
| रासायनिक पुनर्जनन | ✅ कोई नहीं — केवल डीसी करंट | ❌ एसिड + कास्टिक, हर 2-3 सप्ताह में | ✅ कोई नहीं |
| परिचालन निरंतरता | ✅ चौबीसों घंटे निर्बाध | ❌ प्रति चक्र 4-8 घंटे का डाउनटाइम | ✅ निरंतर |
| परिचालन व्यय (रसायन) | ✅ लगभग शून्य | ❌ 20,000–80,000 अमेरिकी डॉलर प्रति वर्ष | ✅ कम (केवल एंटीस्केलेंट) |
| टीओसी निष्कासन | ✅ <5 पीबीपी (यूवी + ईडीआई) | ⚠️ आंशिक (रेजिन पर निर्भर करता है) | ❌ सीमित |
| SEMI F63 अनुपालन | ✅ पूर्ण अनुपालन | ⚠️ केवल ताज़ा पुनर्जीवित होने पर ही | ❌ लागू नहीं |
| खतरनाक अपशिष्ट | ✅ कोई नहीं | ❌ अम्लीय + संक्षारक अपशिष्ट | ⚠️ केवल एकाग्रता बनाए रखें |
| पदचिह्न | ✅ कॉम्पैक्ट स्किड / 40HQ | ⚠️ बड़ा (पात्र + रासायनिक टैंक) | ✅ कॉम्पैक्ट |
48 घंटों में अपना निःशुल्क तकनीकी प्रस्ताव प्राप्त करें
हमें अपने फीड वाटर का विश्लेषण और प्रवाह संबंधी आवश्यकताएं भेजें। हमारे इंजीनियर एक सिस्टम डिजाइन करेंगे और आपको साइजिंग, पी एंड आईडी स्केच और बजट मूल्य सहित एक विस्तृत तकनीकी प्रस्ताव निःशुल्क और बिना किसी बाध्यता के भेजेंगे।
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