Sistema de água ultrapura semicondutor

Sistema de água ultrapura para semicondutores

O sistema de água ultrapura para as indústrias eletrônica e de semicondutores consiste em quatro etapas principais: pré-tratamento, osmose reversa, ultrapurificação e pós-tratamento. A QILEE personaliza sistemas de água ultrapura com diversas vazões e qualidades de água de saída, de acordo com as necessidades do cliente.

• Resistividade ≥18 mω

• <5 ppb toc

• <0,1 ppb de sílica

Vantagens do nosso sistema de água ultrapura para semicondutores

O sistema adota um design modular com tecnologia avançada de tratamento de água de duplo estágio RO + EDI + leito misto. Ele foi projetado em estrita conformidade com os mais recentes padrões técnicos para garantir a estabilidade da qualidade da água e a operação confiável a longo prazo.

Fluxograma do processo

1. Método tradicional de tratamento de água utilizando resina de troca iônica para produzir água ultrapura para a indústria eletrônica.

Seu fluxo de processo básico:

● Água Bruta → Filtro Multimídia → Filtro de Carvão Ativado → Filtro de Cartucho → Tanque de Água Intermediária → Leito de Cátions → Leito de Ânions → Leito Misto (Leito Duplo) → Tanque de Água Ultrapura → Bomba de Água Ultrapura → Filtro de Segurança Pós-Tratamento → Ponto de Uso

2. Método combinado de equipamentos de tratamento de água por osmose reversa e equipamentos de troca iônica para produção de água ultrapura para a indústria eletrônica.

Seu fluxo de processo básico:

3. Produção de água ultrapura combinando um sistema de osmose reversa com eletrodeionização (EDI). Este é um processo de produção de água ultrapura ecologicamente correto e economicamente viável, com grande potencial de desenvolvimento.

Seu fluxo de processo básico:

Sistemas reais, desempenho real

Fotos de fábrica dos sistemas QILEE EDI construídos e testados em nossa unidade de Xangai antes do envio.

Sistema DI de 2 módulos

Skid em aço inoxidável 316L • Módulos EDI duplos • Painel de controle integrado • Monitoramento de resistividade

Sistema EDI de grande escala com 4 módulos

4 módulos EDI • Gabinete de distribuição de energia • Visor de resistividade multicanal • Alarme automático

Campos de inscrição

Água para limpeza de materiais eletrônicos e semicondutores, componentes, folhas de alumínio e peças de trabalho na fabricação de capacitores eletrolíticos;

Processo de tratamento de água para produção de tubos de imagem e telas fluorescentes, incluindo limpeza do bulbo de vidro, precipitação, umectação, lavagem da película e limpeza do diâmetro do tubo;

Solução aquosa para preparação de limpeza durante a fabricação de displays de cristal líquido;

Na produção de chips eletrônicos, é utilizado principalmente para a limpeza de wafers de silício, com uma pequena parcela destinada à preparação de soluções químicas e ao corte;

Água de alta pureza para limpeza de wafers de silício na fabricação de circuitos integrados, bem como água para produção de tubos de imagem e fósforo de alta qualidade;

Água de processo para painéis de exibição de LCD, LED e plasma PDP;

Água para o corte de wafers fotovoltaicos e fabricação de produtos optoeletrônicos;

Água de produção para baterias de armazenamento, baterias de lítio e células solares;

Água para tratamento de superfície em galvanoplastia, revestimento, indústria automotiva, metalurgia e outras máquinas de alta precisão e produtos de microprecisão;

Água para laboratórios destinados a institutos de pesquisa nas áreas de metalurgia, química, biologia e outras;

Água para produção e tratamento de materiais para empresas militares e instituições de pesquisa nos setores aeroespacial, astronômico e de energia nuclear.

Especificações Essenciais do Setor

Circuitos integrados semicondutores / DRAM / NAND

Em conformidade com a norma SEMI F63, 18 MΩ·cm, para limpeza de wafers.

Painéis de exibição LCD / OLED

Limpeza de substrato de vidro, baixa necessidade de sílica

Energia solar fotovoltaica TOPCon / HJT

Texturização e revestimento de wafers de silício; afeta a vida útil dos portadores minoritários.

Produtos Farmacêuticos e Biotecnologia

Água purificada USP, endotoxina < 0,001 EU/mL

Água de alimentação de caldeiras (BFW) para a indústria de energia

Condutividade <0,1 μS/cm, substituição de leito misto, redução de 50% nos custos operacionais.

Testes laboratoriais e analíticos

HPLC / ICP-MS / cultura celular, ISO 3696 Grau 1

Placas de circuito impresso e componentes eletrônicos

Resistividade > 10 MΩ·cm, limpeza de revestimento de cobre

Eletrolisador PEM de hidrogênio verde

Condutividade <1 μS/cm, proteção MEA

QILEE EDI versus alternativas convencionais

Critérios	QILEE RO + EDI	IEX de leito misto	Somente RO convencional
Resistividade do produto	✅ ≥18 MΩ·cm garantido	⚠️ 10–18 MΩ·cm (degrada)	❌ ~0,05–1 MΩ·cm
Regeneração química	✅ Nenhum — somente corrente contínua	❌ Ácido + cáustico, a cada 2–3 semanas	✅ Nenhum
Continuidade operacional	✅ Disponível 24 horas por dia, 7 dias por semana, sem interrupções	❌ Tempo de inatividade de 4 a 8 horas por ciclo	✅ Contínuo
OPEX (produtos químicos)	✅ Quase zero	❌ USD 20.000–80.000/ano	✅ Baixo (somente antincrustante)
remoção de TOC	✅ <5 ppb (UV + EDI)	⚠️ Parcial (depende da resina)	❌ Quantidade limitada
Conformidade com SEMI F63	✅ Conformidade total	⚠️ Somente quando recém-regenerado	❌ Não aplicável
Resíduos perigosos	✅ Nenhum	❌ Efluente ácido + cáustico	⚠️ Somente concentrado
Pegada	✅ Skid compacto / 40HQ	⚠️ Grande (tanque + tanques químicos)	✅ Compact

Receba sua proposta técnica gratuita em 48 horas.

Envie-nos a análise da sua água de alimentação e os requisitos de vazão. Nossos engenheiros projetarão um sistema e enviarão uma proposta técnica detalhada com dimensionamento, diagrama de tubulação e instrumentação (P&ID) e orçamento, sem custo e sem compromisso.

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