반도체용 초순수 시스템
전자 및 반도체 산업용 초순수 시스템은 전처리, 역삼투압, 초정수 및 후처리의 네 가지 핵심 단계로 구성됩니다. QILEE는 고객의 요구 사항에 따라 다양한 유량과 출수 수질을 갖춘 맞춤형 초순수 시스템을 제공합니다.
• <5 ppb toc
• 실리카 함량 <0.1 ppb
당사 반도체 초순수 시스템의 장점
QILEE EDI 대 기존 대안
| 기준 | 퀼리 RO + 에디 | 혼합층 IEX | 기존 RO 전용 |
| 제품 저항률 | ✅ 18 MΩ·cm 이상 보장 | ⚠️ 10–18 MΩ·cm (성능 저하) | ❌ ~0.05–1 MΩ·cm |
| 화학적 재생 | ✅ 없음 — 직류 전류만 해당 | ❌ 산성 용액 및 부식성 용액, 2~3주 간격 | ✅ 없음 |
| 운영 연속성 | ✅ 24시간 연중무휴 중단 없이 | ❌ 주기당 4~8시간의 가동 중단 시간 | ✅ 지속적 |
| OPEX(화학제품) | ✅ 거의 0에 가까움 | ❌ 연간 20,000~80,000 USD | ✅ 낮음 (스케일 방지제만 포함) |
| TOC 제거 | ✅ <5 ppb (UV + EDI) | ⚠️ 부분적 (레진 종류에 따라 다름) | ❌ 제한적 |
| SEMI F63 규정 준수 | ✅ 완벽한 규정 준수 | ⚠️ 새로 재생성되었을 때만 사용 가능 | ❌ 해당 사항 없음 |
| 유해 폐기물 | ✅ 없음 | ❌ 산성 + 부식성 폐수 | ⚠️ 농축액만 사용하세요 |
| 발자국 | ✅ 소형 스키드 컨테이너 / 40HQ | ⚠️ 대형 (선박 + 화학물질 탱크) | ✅ 컴팩트함 |
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