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반도체용 초순수 시스템

전자 및 반도체 산업용 초순수 시스템은 전처리, 역삼투압, 초정수 및 후처리의 네 가지 핵심 단계로 구성됩니다. QILEE는 고객의 요구 사항에 따라 다양한 유량과 출수 수질을 갖춘 맞춤형 초순수 시스템을 제공합니다.

• 18mΩ 이상의 비저항

• <5 ppb toc

• 실리카 함량 <0.1 ppb

당사 반도체 초순수 시스템의 장점

본 시스템은 이중 역삼투(RO) + 전기탈이(EDI) + 혼합층 방식의 첨단 수처리 기술을 적용한 모듈식 설계를 채택했습니다. 최신 기술 표준을 엄격히 준수하여 설계되었으며, 안정적인 수질과 장기적인 신뢰성을 보장합니다.
프로세스 흐름
1. 전자 산업용 초순수 생산을 위한 이온 교환 수지를 이용한 전통적인 수처리 방법.


기본 프로세스 흐름은 다음과 같습니다.
● 원수 → 다중 매체 필터 → 활성탄 필터 → 카트리지 필터 → 중간수 탱크 → 양이온층 → 음이온층 → 혼합층(이중층) → 초순수 탱크 → 초순수 펌프 → 후처리 안전 필터 → 최종 사용 지점
2. 전자 산업용 초순수 생산을 위한 역삼투압 정수처리 장비와 이온교환 장비의 결합 방법.

기본 프로세스 흐름은 다음과 같습니다.
● 원수 → 다중 매체 필터 → 활성탄 필터 → 카트리지 필터 → 중간 처리 탱크 → 역삼투압 시스템 → 혼합층(이중층) 필터 → 초순수 탱크 → 초순수 펌프 → 후처리 필터 → 최종 사용 지점
3. 역삼투압 시스템과 전기탈이온화(EDI)를 결합한 초순수 생산 방식. 이는 환경 친화적이고 비용 효율적인 초순수 생산 공정으로, 발전 가능성이 매우 높습니다.

기본 프로세스 흐름은 다음과 같습니다.
● 원수 → 다중 매체 필터 → 활성탄 필터 → 카트리지 필터 → 중간수 탱크 → 역삼투압 시스템 → 전기탈이온화(EDI) → 초순수 탱크 → 초순수 펌프 → 후처리 안전 필터 → 정수 처리
사운드 경험
실제 시스템, 실제 성능
출하 전 상하이 공장에서 제작 및 테스트를 거친 QILEE EDI 시스템의 공장 사진입니다.
DI 2모듈 시스템
SS316L 스키드 • 듀얼 EDI 모듈 • 통합 제어 패널 • 저항 모니터링
EDI 4모듈 대규모 시스템
4개의 EDI 모듈 • 전원 분배 캐비닛 • 다채널 저항률 표시 • 자동 경보
응용 분야
전해 콘덴서 제조 과정에서 전자 및 반도체 재료, 부품, 알루미늄 호일 및 가공물을 세척하는 데 사용되는 물;
브라운관 및 형광 스크린 생산에 사용되는 공정수(유리 전구 세척, 침전, 습윤, 필름 세척 및 튜브 직경 세척 포함)
액정 디스플레이 제조 중 세척용 용액 준비수;
전자 칩 생산에서 주로 실리콘 웨이퍼 세척에 사용되며, 소량은 화학 용액 준비 및 절단에 사용됩니다.
IC 제조 공정에서 실리콘 웨이퍼 세척에 사용되는 고순도 물뿐만 아니라 고품질 브라운관 및 형광체 생산에 사용되는 물.
LCD, LED 및 PDP 플라즈마 디스플레이 패널용 공정수;
태양광 웨이퍼 절단 및 광전자 제품 제조에 사용되는 물;
축전지, 리튬 배터리 및 태양 전지용 생산 용수;
전기 도금, 코팅, 자동차, 금속 및 기타 고급 정밀 기계 및 초정밀 제품용 표면 처리수;
금속, 화학, 생물학 및 기타 분야의 연구 기관용 실험실 용수;
군수업체 및 항공우주, 천문학, 원자력 분야의 연구기관을 위한 생산 및 처리 용수 공급.
핵심 산업 사양
반도체 IC / DRAM / NAND
웨이퍼 세척용으로 SEMI F63 규격 준수, 18 MΩ·cm 저항
디스플레이 패널 LCD / OLED
유리 기판 세척, 저실리카 요구량
태양광 발전 TOPCon / HJT
실리콘 웨이퍼 텍스처링 및 코팅은 소수 캐리어 수명에 영향을 미칩니다.
제약 및 생명공학
USP 정제수, 엔도톡신 <0.001 EU/mL
전도도 <0.1 μS/cm, 혼합층 대체, 운영비 50% 절감
HPLC/ICP-MS/세포 배양, ISO 3696 1등급
비저항 >10 MΩ·cm, 구리 ​​도금 세척
전도도 <1 μS/cm, MEA 보호

QILEE EDI 대 기존 대안

기준퀼리 RO + 에디혼합층 IEX기존 RO 전용
제품 저항률✅ 18 MΩ·cm 이상 보장⚠️ 10–18 MΩ·cm (성능 저하)❌ ~0.05–1 MΩ·cm
화학적 재생✅ 없음 — 직류 전류만 해당❌ 산성 용액 및 부식성 용액, 2~3주 간격✅ 없음
운영 연속성✅ 24시간 연중무휴 중단 없이❌ 주기당 4~8시간의 가동 중단 시간✅ 지속적
OPEX(화학제품)✅ 거의 0에 가까움❌ 연간 20,000~80,000 USD✅ 낮음 (스케일 방지제만 포함)
TOC 제거✅ <5 ppb (UV + EDI)⚠️ 부분적 (레진 종류에 따라 다름)❌ 제한적
SEMI F63 규정 준수✅ 완벽한 규정 준수⚠️ 새로 재생성되었을 때만 사용 가능❌ 해당 사항 없음
유해 폐기물✅ 없음❌ 산성 + 부식성 폐수⚠️ 농축액만 사용하세요
발자국✅ 소형 스키드 컨테이너 / 40HQ⚠️ 대형 (선박 + 화학물질 탱크)✅ 컴팩트함
48시간 내에 무료 기술 제안서를 받아보세요.
급수 분석 결과와 유량 요구 사항을 보내주시면, 저희 엔지니어들이 시스템을 설계하여 크기, 배관 도면(P&ID), 예상 가격을 포함한 상세한 기술 제안서를 무료로 제공해 드립니다. 어떠한 의무도 부담하실 필요가 없습니다.
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