半導体超純水製造システム
電子機器および半導体産業向けの超純水システムは、前処理、逆浸透、超純水処理、後処理の4つの主要工程から構成されます。QILEEは、お客様のご要望に応じて、様々な流量と出口水質に対応した超純水システムをカスタマイズしてご提供いたします。
•総濃度5ppb未満
・シリカ含有量0.1ppb未満
当社製半導体超純水システムの利点
QILEE EDI と従来の代替手段の比較
| 基準 | QILEE RO + EDI | 混合床式IEX | 従来型ROのみ |
| 製品の抵抗率 | ✅ 18 MΩ・cm以上を保証 | ⚠️ 10~18 MΩ・cm(劣化) | ❌約0.05~1 MΩ・cm |
| 化学的再生 | ✅ なし — 直流電流のみ | ❌ 酸+苛性ソーダ、2~3週間ごと | ✅ なし |
| 業務継続性 | ✅ 24時間365日途切れることなく | ❌ サイクルごとに4~8時間のダウンタイム | ✅ 継続的 |
| OPEX(化学薬品) | ✅ ほぼゼロ | ❌ 年収20,000~80,000米ドル | ✅ 低濃度(スケール防止剤のみ) |
| TOC除去 | ✅ 5 ppb未満(UV + EDI) | ⚠️ 部分的(樹脂の種類による) | ❌ 限定 |
| SEMI F63準拠 | ✅ 完全準拠 | ⚠️ 再生直後のみ | ❌ 該当なし |
| 有害廃棄物 | ✅ なし | ❌ 酸性+苛性排水 | ⚠️ 集中のみ |
| フットプリント | ✅ コンパクトスキッド / 40HQ | ⚠️ 大型(容器+薬品タンク) | ✅コンパクト |
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